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等离子清洗器是一种小型化、快速、非破坏性并无化学污染的台式射频气体放电超清洗设备，主要用于需要表面超清洗的许多领域中，它也被用于一些材料表面化学改性。等离子清洗器清洗介质采用惰性气体，有效避免了其它清洗方法使用液体清洗介质对被清洗物所带来的二次污染。对某些特殊用途的材料，在超清洗过程中等离子清洗器的辉光放电不但加强了这些材料的粘附性、相容性和侵润性，并使这些材料得到了消毒。等离子清洗器广泛应用于光学材料、半导体工业、生物芯片、生物医学、牙科、高分子科学等各个方面。
图1，等离子清洗前后的Ge表面上的ATR 光谱（θave＝45°，N＝20）。底部路径表明Ge覆盖了一层厚（大约1微米）的光阻物质（Azlll）。顶部路径表明了在用O2等离子清洗十五分钟后的相同表面，表明了Ge在光阻物质从其表面脱除后又回到了其初始有机自由状态。
图2，从一个硅ATR盘片（60 反射，θ＝45°）上移除碳氧化
合物。C－H键（底部路径）表明10％的吸收，在等离子空气中
暴露一分钟后被彻底消除（顶部路径）。